成果j9电竞官网发布XCL0026]多功能大尺寸晶体连续制造设备
发布时间:2024-09-02 18:09:46点击:
采用上称重法自动控制系统,根据晶体生长过程中主的加热器延伸率、埚径比和熔体高度变化,应用动态矩阵控制温度梯度和热流密度分布,以提高品体材料生长速率和光学均匀性(铌酸锂体折射率波动值控制在士0.0001之内,处于国内同行领先水平);采用智能PID系统控制结合提拉机械对整个品体生长全程控制,可实现长时间不间断对晶体生长速度的精确动态控制,有效提升晶体质量;采用程序高精度动态控制平放肩工艺,避免人工失误、低效等技术性难题,简化晶体生长难度,实现超大尺寸高端滤波晶体材料产业化生产。
原料处理设备:工作温区有效直径不低于400mm,最高工作温度可达到1700℃,温控精度土1℃;晶体生长设备:温区有效直径不低于直径300mm,最高工作温度达到2000℃,温控精度士0.1℃C:多功能极化退火热处理设备:工作温度可达1700°℃,升温速率1~15°C/min,控温精度士1°℃。
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